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EUVリソグラフィの性能を向上する露光モジュールを開発(産学共同実用化開発事業NexTEPの成果)

  • 分野:研究・技術・産学連携
  • 地域:東京都 
  • 実施機関:科学技術振興機構

実施機関からのお知らせ

産学共同実用化開発事業(NexTEP)の開発課題「リソグラフィ用レジストの高性能化モジュール」の開発結果を成功と認定しました。この開発で完成した「高感度化モジュール」により、EUVリソグラフィを半導体デバイスの量産向け装置として実用化できる基盤が構築できました。今後、半導体デバイスの量産に向けて、量産プロセスの生産性の向上、低コスト化の実現が期待されます。

掲載日:2018.12.06

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