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直射日光下でのパターン投影による高速形状計測に成功

  • 分野:研究・技術・産学連携
  • 地域:全国 
  • 実施機関:産業技術総合研究所

実施機関からのお知らせ

産業技術総合研究所知能システム研究部門コンピュータビジョン研究グループ佐藤雄隆研究グループ長、佐川立昌産業技術企画調査員は、直射日光のような強い外乱光がある環境でも、光源から対象物に投影した模様(パターン)を正確に検出して、高速に運動・変形する物体の形状を計測する手法を開発しました。

掲載日:2017.07.14

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