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有限会社渕田ナノ技研(2040002059153)

エアロゾル化ガスデポジションによるセラミックス成膜の実用化開発[製造業 その他製品]

事業情報

エアロゾル化ガスデポジションによるセラミックス成膜の実用化開発

(1)日本発のナノテクノロジーをものづくりに使う
(2)熱を加えなくても(室温で)薄い膜を作ることができる
(3)1000度C以上の高温に耐えられるセラミックスの粉を、吹き矢の如く飛ばし、板の上に吹き付ける(膜加工する)機械の実用化開発
 微粒子をガスと共に搬送し、ノズルから噴射させることにより、緻密な成膜を行うエアロゾル化ガスデポジション(AGD)を用いて、アルミナ、ジルコニア等を常温成膜する技術・装置の実用化開発を実施する。高速・連続成膜のための100mm幅のノズル開発や粉供給機構、複数ノズル成膜、エアロゾル化の安定化などを確立し、グリーンテクノロジーであるAGD装置を実用化する。

・事業進捗状況:営業中

・事業計画:1.新規市場創出
 (1)グリーンテクノロジーであるエアロゾル化ガスデポジション装置の製造・販売
   ・絶縁膜形成用設備
   ・遮熱コーティング用設備
   ・電池材料成膜用設備など
 (2)大面積成膜用のガスデポジション装置の製造・販売
2.市場競争力
 エアロゾル化ガスデポジション(AGD)法は、ジルコニア、アルミナなどのセラミックス材料を高温加熱することなく、常温で成膜できるグリーンテクノロジーである。電気絶縁性、耐熱性などを必要とするセラミックス膜の産業利用は、多く存在する。そのセラミックス膜形成法として、旧来の焼結法のほか、プラズマスプレー法、電子ビーム物理蒸着法、レーザーCVD法およびスパッタ法などがある。AGD法は、それらに比べ低温成膜できるところに優位性がある。
 市販品の微粒子をノズルから噴射させ、対向する基板に成膜するプロセスが、シンプルなことより、設備コストを安価に抑えることができ、他の成膜設備との競合に十分対抗できる。
 現状、エアロゾル化ガスデポジション装置を外販している企業は、弊社しかないようである。理由として、2003年まで有効であった前職企業(株式会社アルバック)が保有していた林主税氏発明の基本特許の存在があり、他社の参入が難しかったこと。また、ナノ粒子の取り扱いや噴射ノズルを含めたトータルな技術知見が、前職企業より技術移管を受けた弊社しか持ち合わせていないことによると思われる。今後も「ガスデポジション技術の先駆者たる地位を固めるとともに、ナノ粒子を含めたそれらの技術発展に果敢に挑戦する」との会社の基本的な考え方に沿って事業化を推し進める。
3.販売戦略
 現在、顧客より弊社ホームページ経由で引き合いが多くあり、実験装置販売などの成約に結び付いている。もちろん、25年以上におよぶナノ粒子分野での業績、そして人的交流が手助けいただいていると思っている。その人的交流は今後も大事にしていくとともに、顧客へのPRのために、展示会等での広報活動、学会活動等にも努めたい。
 また、現在、5社のアウトソーシング先にて、装置の組立・製造を行っている。実用化開発の実施に伴い、つくば事業所を開設した。数年先をめどに自社の工場を持つことを考えるとともに、海外展開を含め人的増強や業務提携などが必須と思われる。

補助金基本情報

・予算区分(採択年度): 平成21年

・補助金名:イノベーション実用化助成事業のうち民間企業支援に係る助成金

・採択テーマ:エアロゾル化ガスデポジションによるセラミックス成膜の実用化開発

・研究開発分野:ナノテクノロジー・高機能部材分野(グリーンサステイナブルケミストリーを含む)

・交付機関:(独)新エネルギー・産業技術総合開発機構(関係省名:経済産業省)

・問い合わせ先:技術開発推進部 044-520-5173

[2010年12月01日 更新]

企業概要

・所在地:2860011 千葉県成田市玉造2丁目25番地57

・電話番号:0476-27-3933

・代表者名:渕田英嗣

・代表的な保有設備:エアロゾル化ガスデポジション装置

・代表的な保有特許:ガスデポジション関連の国内外の保有特許8件、代表的な特許3452617号
エアロゾル化ガスデポジション関連の保有特許1件、特許4076991号
その他の出願済特許12件

・代表的な取引先実績:アルバック、出光興産、カシオ計算機、神奈川県産業技術センター、キヤノン、九州大学、京セラ、慶応義塾大学、コニカミノルタオプト、産業技術総合研究所、三洋電機、シチズン時計、昭和電工エレクトロニクス、スタンレー電気、住友金属鉱山、住友電気工業、筑波大学、テクニスコ、デンソー、東京大学、東芝マテリアル、東洋炭素、東レ、トヨタ自動車、長野県工業技術総合センター、名古屋大学、日亜化学工業、ニッタ、日本電気、パナソニック、日立金属、日立製作所、日立電線、富士通研究所、富士フイルム、富士電機アドバンストテクノロジー、物質・材料研究機構、HOYA、ホンダエンジニアリング、本田技術研究所、三井金属鉱業、三菱電機

・URL:http://www.nanotechjp.com/

・資本金:300万円

・設立年月日:2004年05月20日

・従業員数:4人

・その他自由記入欄:

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